Elaboration et caractérisation des couches minces à base d’Aluminium obtenues par co-pulvérisation cathodique magnétron

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2010
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La protection des aciers et des structures métalliques, tant d’un point de vue mécanique que physico-chimique, est un enjeu emportant au niveau industriel. Les traitements anticorrosion par revêtements métalliques, dont la plupart s’obtiennent par des traitements en voie humides sont largement répandus. Mais les contraintes environnementales de plus en plus sévères limitent l’utilisation des ces techniques traditionnels en voie humide, notamment en raison des traitements des effluents contenant des métaux lourds. C’est le cas du chromage électrolytiques. La technique de dépôts par pulvérisation cathodique magnétron (PVD) offre une alternative louable pour remplacer les dépôts électrolytiques de chrome dur. Pour cela, des dépôts à base d’aluminium ont été élaborés par PVD pour pouvoir répondre aux exigences tant d’un point de vue mécanique que du point de vue physico-chimique. C’est dans cette optique que s’inscrit notre étude. Pour réaliser une architecture multicouche nanostructurées, nous avons tout d’abord élaboré et caractérisé des couches binaires à base d’Aluminium (Al-M : M = Mo, Mn, V, Mg, Y et Gd) et ternaires (Al-Mo-X et Al-V-X : X = Y, Gd) pouvant servir par la suite à échafauder des systèmes multicouches à l’aide de ces binaires et trouver les candidats potentiels comme anode sacrificielle pour les aciers de construction. On a trouvé que les alliages Al-Mo et Al-V ont des propriétés électrochimiques mieux adaptés, comparés aux alliages Al-Mg, Al-Mn, Al-Y et Al-Gd
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