Comportement électrochimique de couches minces Fe-Si obtenues par pulvérisation cathodique magnétron
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Date
2008
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Abstract
Dans notre approche nous avons étudié le comportement
électrochimique des films minces nano-structurés élaborés par co pulvérisation cathodique magnétron (procédé PVD).
Les films ont été élaborés à partir de deux cibles ultra pures. Les
alliages obtenus sont des alliages de Fer-Silicium largement utilisés
dans l’industrie électrique et électronique. Les films minces Fe-Si
trouvent également des applications comme des capteurs magnétiques.
En fonction de la teneur en silicium, au delà de 32at. % Si nous
avons constaté que la structure se modifie et passe d’un système
cubique centré à une structure amorphe.
Les analyses électrochimiques, menées dans deux solutions
différentes ; l’une constituée d’une solution de NaCl à 3,2% et l’autre
une solution aqueuse d’eau douce minérale, ont révélé que, selon que le
caractère cristallin ou bien amorphe et selon le milieu le comportement
électrochimique des couches étudiées change.
Parmi les résultats obtenus, la principale conclusion que nous
avons retenu est que les structures amorphes ont le meilleur
comportement électrochimique et que la dégradation de l’état de surface
dépend de la concentration en silicium et du milieu