Les réactions interfaciales dans le couple de diffusion Ni/Sn

dc.contributor.authorNabil ADIOUI
dc.date.accessioned2023-02-27T09:24:37Z
dc.date.available2023-02-27T09:24:37Z
dc.date.issued2018
dc.description.abstractLes résultats de la microstructure des réactions de diffusion, aux températures d’état solide, dans les couples Ni/Sn à été étudié par le microscope électronique à balayage et au rayon X. La phase Ni3Sn4 est le seul produit de réaction formé dans les couples à des températures de 150 à 220°C. La cinétique de croissance de la couche Ni3Sn4 suit la loi parabolique avec une énergie d’activation de 104 KJ mol-1 . L’effet de l’atmosphère sur la microstructure de la couche interfaciale à été étudié à 220°C pour la pression de 10-8 atm. La décroissance du tau de croissance de la couche de phase à été observée.
dc.identifier.urihttps://dspace.univ-annaba.dz//handle/123456789/2089
dc.language.isofr
dc.titleLes réactions interfaciales dans le couple de diffusion Ni/Sn
dc.typeThesis
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